Personalización:	Disponible
Aplicación:	cerámica industrial refractaria
Función:	Resistente al desgaste

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PREGUNTAS FRECUENTES

Información Básica.

No. de Modelo.

G-E203

Material

Plato de cerámica de porcelana

Proceso

Plato de cerámica de porcelana

método de supresión

presurización unidireccional

material1

95 alúmina 99 cerámica de circonia de alúmina

color

marfil, crema, blanco

uso

dispositivo de película fina

forma

forma irregular

acabado superficial

pulido, mecanizado, ranura, orificio, muesca

temperatura de trabajo

1400-1800c

sinónimos

óxido de aluminio, alindón, corindón, óxido de alúmina

tamaño

solicitudes de los clientes

operación

resistencia al calor, resistencia mecánica, abrasión res

tamaño de grano

1-10um

pureza

95%

tipo

parte cerámica

ventaja

alta temperatura y corrosión química, vacuu alta

application1

utilizado en maquinaria, electrónica, industria química

Paquete de Transporte

cartón

Especificación

personalizado

Marca Comercial

sí

Origen

China Shanghai

Código del HS

8547100000

Capacidad de Producción

500000 pcs/año

Descripción de Producto

Sustratos de alúmina para circuitos de película fina

Podemos proporcionar sustratos cerámicos de película fina, circuitos de película fina y circuitos de película gruesa. Tecnología avanzada capacidad:modificación de polvo,fundición,sinterización,CMP,sputtering,evaporación, fotolitografía, electrochapado, grabado, impresión de pantalla presión isostática, corte láser, etc

Sustratos de alúmina para circuitos de película fina

*mantiene controles de proceso estrictos y parámetros de prueba para asegurar un producto consistente en cada lote que proporciona un valor y rendimiento óptimos

* procesos secundarios avanzados como el mecanizado, pulido y pulido láser

Al2O3 %:≥99,6	Conductividad térmica:≥30W/m.K a 25ºC.
Tamaño:hasta Dia. 8 pulgadas	TCE: 7,1 PPM/ºC (25-300ºC)
Grosor: 0,05~2mm,±2%	Acabado de la superficie:
Densidad:≥3,9 g/cm3	Como fue despedido:50-80nm/80-150nm
Absorción de agua %:0	Lapped:<300nm
Resistencia flexural:550 MPa	Pulido:≤25nm
Constante dieléctrica: 9,9±0,1@10GHz	*Resistividad volumétrica:≥11014 Ω.cm**
Pérdida dieléctrica tangente:0,0001@10GHz	Rigidez dieléctrica:≥15kV/mm

Tamaño: Dimensiones exteriores máximas 152,4mm. Dimensión exterior ± 0,3mm. Dimensiones típicas 50,8 *50. 8mm,76,2mm*76,2mm,101,6mm*101,6mm,OD 101,6mm grosor del sustrato T:0,1- 3mm grosor del disco de amolado y pulido ±0,01 mm grosor típico :0.127,0.254,0.381,0.508,0.635

95% Alumina Thin Film Disc Ceramic Wafer Substrate for Sensor

Q1: ¿Cómo puede saber su calidad?
Podemos enviarle muestras o material de muestra para que usted pueda comprobarlo o probarlo.deje que nuestras muestras físicas hablen en voz alta.
Q2:¿son estas muestras gratuitas?
Algunas muestras pequeñas estándar son gratuitas.Si es lo mismo que sus necesidades, sólo cargaremos el molde para apoyar.
Q3:Si los productos no son necesarios, ¿cómo puede hacerlo?
Haremos todo lo posible para soltarlo.cumplir con sus requisitos es nuestra misión.
Q4:¿Cuál es el tiempo de espera?
Normalmente, para artículos estándar, se enviará en un plazo de 1-10 días.para pedidos de producción masiva, terminaremos en un plazo de 30 días laborables después de recibir el pago.
Q5:Condiciones de pago:
Podemos negociar.

95% Disco de cerámica de película delgada de alúmina como sustrato para sensor

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